化镀服务

PacTech 提供适用于晶圆凸起、焊盘再分布以及 ACF/ACA 应用的代工化学镀镍服务。PacTech 在全球拥有三家制造工厂,均可提供这些服务。我们以客户为导向,灵活满足客户的一切需求。我们不仅支持样品制作、工程设计和研发项目,还支持高批量生产。PacTech 的每个工厂每年可以处理 60 万片晶圆。

PacTech 利用化学镀镍结合化学镀钯和浸金工艺,提供多种不同的焊盘表面处理和层厚度:

  • e-Ni/Au

  • e-Ni/Pd
  • e-Ni/Pd/Au
  • e-Ni/Ag
我们的灵活工艺能够根据要求和应用,沉积2微米至25微米之间的镍层。钯可以沉积在100纳米至300纳米的范围内,金通常沉积在30纳米至100纳米之间。凭借超过 25 年的丰富经验,我们非常乐意帮助您找到适合应用的规格要求。
UBM Electroless Plating

晶圆级封装服务

电镀

电镀,或电化学沉积,是利用电沉积工艺在任何基材上镀覆一层金属的过程。例如,RDL 和铜就属于电镀工艺的一部分。

化镀

低成本无掩模化学沉积技术,可在晶圆表面沉积各种金属叠层,用作金属间互连,提高产品可靠性和性能。

激光辅助键合

激光辅助键合是一种利用激光能量将两种材料表面键合在一起的互连方法。

焊锡凸点技术

多种焊锡沉积技术用于形成 WLCSP 和倒装芯片互连的焊锡凸点。

晶圆级组件封装

晶圆级封装是将芯片或各种无源器件贴装在晶圆表面的工艺。

晶圆减薄

晶圆减薄是指为最终封装中的芯片减薄晶圆背面的过程。

晶圆金属镀层

利用蒸发或溅射技术在晶圆背面应用各种金属叠层以提高芯片性能。

晶圆切割

晶圆切割是指利用高精度的方法将晶圆上的芯片一个个分开分离的过程。