用于电镀、蚀刻、剥离与清洗的先进湿法处理系统

模块化湿法设备

该模块化湿法设备是一种紧凑且灵活的湿法处理系统，适用于晶圆和面板的电镀、蚀刻、剥离及清洗工艺。该系统基于单一工艺模块设计，配备两个串联排列的槽体及侧置控制柜。 工艺模块内的触控显示屏以及可移动中央触控显示器，可快速访问状态信息和工艺配方。

在人工上料后，全自动集成机械臂负责在两个工艺槽之间前后搬送载具，并执行槽内搅拌。清晰且功能性的设计便于维护和保养。 由控制柜和一个工艺模块组成的基础单元，可通过增加工艺模块实现灵活且无限扩展。

特点

  • 单模块，两个串联工艺槽

  • 集成式全自动机械臂

  • 自动搅拌

  • 用于全局与本地控制的触控显示与监视器

  • 紧凑节省空间的设计

  • 易于维护

  • 通过模块化设计实现灵活扩展

  • 适用于电镀、蚀刻、剥离、显影及清洗工艺

  • 全局用户与配方管理

  • 支持OPC UA、SECS/GEM、SMEMA等多种通信协议与集成标准

技术基本规格

  • 设备材质：PP或不锈钢

  • 尺寸（长×宽×高）：约1850×1500×2420 mm

  • 总重量：约750 kg

  • 电源：1×400V，三相，50Hz

  • 压缩空气（CDA）：6.5 bar，80 l/min

  • 氮气：4 bar，最大1 l/min

  • DI水：5–6 bar，1000 l/h，>14 MΩ·cm

  • 洁净室建议：ISO 7（Class 10,000）或更高

  • 多种槽体材料可选：石英玻璃、不锈钢、PVA、PP等，并可提供PVA等多种涂层

Modular Wet-Bench