化學電鍍 – 在晶圓上進行無掩模化學沈積，作為金屬間連接或提高産品可靠性。
電鍍是使用電沈積法在任何基材上為物體鍍上一層金屬的過程。
電鍍銅柱，帶有可選的鎳擴散屏障和錫銀帽，以實現低成本和細間距的倒裝芯片互連。
將帶有金屬和電介質層的芯片上的焊盤重新布置到其他位置，以滿足後續的封裝規則。
我們提供各種焊料沈積技術，以形成用于晶圓級芯片級封裝（WLCSP）和倒裝芯片互連的焊錫凸點。
激光輔助鍵合是一種通過激光能量將兩種材料表面鍵合在一起的互連方法。
我們提供晶圓級的組件封裝，通過將裸芯片、集成電路芯片或各種無源器件例如電容器直接貼附于晶圓表面上。
通過高質量的機械抛光和化學應力消除，去除晶圓背面的材料，使最終封裝中的芯片更薄。
通過蒸發或濺射技術在晶圓背面沈積多種金屬疊層，以提高芯片性能。
晶圓切割是指將晶圓上的矽芯片通過機械鋸片的方式分離成一個個獨立的芯片。
晶圓級組件封裝可以顯著降低成本、縮短周期並減小封裝尺寸。我們的晶圓級組件封裝服務包括焊料塗覆、組件放置、回流焊工藝以及可選的光學檢測。可以放置在晶圓上的組件類型包括單芯片、二極管、電容器、晶體管和其他可以直接通過晶圓級封裝形成封裝的集成被動元件 (IPD)。然後將晶圓切割成多個芯片，並放置在鋸片上或纏繞在卷軸上運送至後續的封裝工序。
我們的晶圓級組件封裝服務包括：
高通量、低成本的晶圓級組件封裝
高精度、低應力的 LAPLACE 激光輔助鍵合組件封裝
電鍍，或電化學沈積，是利用電沈積工藝在任何基材上鍍覆一層金屬的過程。例如，RDL 和銅就屬于電鍍工藝的一部分。
低成本無掩模化學沈積技術，可在晶圓表面沈積各種金屬疊層，用作金屬間互連，提高産品可靠性和性能。
激光輔助鍵合是一種利用激光能量將兩種材料表面鍵合在一起的互連方法。
多種焊錫沈積技術用于形成 WLCSP 和倒裝芯片互連的焊錫凸點。
晶圓級封裝是將芯片或各種無源器件貼裝在晶圓表面的工藝。
晶圓減薄是指為最終封裝中的芯片減薄晶圓背面的過程。
利用蒸發或濺射技術在晶圓背面應用各種金屬疊層以提高芯片性能。
晶圓切割是指利用高精度的方法將晶圓上的芯片一個個分開分離的過程。
